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膜厚儀的特點及技術參數(shù)

        膜厚儀又稱膜厚儀、膜厚測試儀。分為磁感應涂層測厚儀、渦流涂層測厚儀、熒光X射線涂層測厚儀。使用磁感應原理時，涂層的厚度是通過從探頭通過非鐵磁涂層流入鐵磁基體的磁通量的大小來測量的。也可以測量相應磁阻的大小來表示涂層的厚度。
        可用于在線膜厚測量、氧化物、感光保護膜、半導體膜等。它還可用于測量涂在鋼、鋁、銅、陶瓷和塑料上的粗糙薄膜層。薄膜表面或界面 反射光會干擾來自基材的反射光。干涉的發(fā)生與薄膜的厚度和折射率有關，因此可以計算薄膜的厚度。光學干涉儀是一種無損、快速的光學薄膜厚度測量技術，薄膜測量系統(tǒng)利用光學干涉原理來測量薄膜的厚度。
        膜厚儀的特點
        1、可測量多層膜中各層的厚度
        2、三維厚度剖面
        3、遙控及在線測量
        4、可以做大范圍150mm或300mm的掃描測試

        5、豐富的素材庫：操作軟件的素材庫有大量素材的n、k數(shù)據(jù)，基本常用素材都包含在這個素材庫中。用戶還可以輸入材料庫中沒有的材料。

         6、軟件操作簡單，測量速度快：膜厚測量儀操作非常簡單，測量速度快： 100ms-1s。

         7、軟件具有建筑材料結構擴展功能，可對單/多層薄膜數(shù)據(jù)進行擬合分析，可進行薄膜材料的預仿真設計。
         8、軟件具有可升級的掃描功能，對薄膜進行二維測試，并以2D或3D形式顯示結果。軟件的其他升級功能包括在線分析軟件、遠程控制模塊等。
        膜厚儀技術參數(shù)
        測厚：10nm-250um； 250nm-1100nm之間任意波長可選擇，在此范圍內(nèi)也可選擇多波長分析；
        波長：250 -1100nm
        厚度范圍：10nm--250m
        分辨率：0,1nm
        重復性：0,3n米
        準確率：<1[%] (100nm--100m)
        測試時間：100ms -- <1s
        分析層數(shù)：1-- 4
        距離光纖：1-5mm
        與光纖的距離：5mm-- 100mm
        入射角：90°
        光斑尺寸：400m